1．5微米～2微米实用型直接分步重复投影光刻机

中国科学院光电技术研究所吴濯才等研制。采用电视对准系统，首次在国内实现硅片掩模同轴对准，采用自行研制的精缩投影物镜与新型光均匀器组成的曝光系统，具有X－Y独立伺服粗微动精密定位工件台及计算机主从控制系统和管理、校正软件。该光刻机在国内首次完成2微米CMOS2000门电路实用化流片考核，通过三批流片均制作出功能完整的器件，成品率高达50%以上，是国内首台能用于工艺线的实用型光刻机。整机综合性能指标及实际工艺考核结果与国内同类机型比较，处于领先地位，相当于国外同类机型80年代中期水平。获1994年中国科学院科技进步一等奖。